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三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演「清洁剂」的角色，不过这类清洁剂是气态，而非液态。

在半导体中，薄膜制程的主要设备是「化学气相沉积」（CVD）机台，会在晶圆片上长出薄膜。薄膜的成份有可能是矽、二氧化矽或其他金属材料，但这些材料不仅会附著在晶片上，也附著在反应室内的墙壁上，内墙上的二氧化矽累积至相当数量，就会在反应室内形成微尘粒子（Particle），影响晶圆片的良率。

因此每台CVD机台在处理过规定数量的晶圆片后，就要使用含氟的气体清洗，以去除内壁上的矽化物质。不过NF3与CF4、C2F6等气体都属于多氟碳化物，是造成温室效应的来源之一。半导体厂为了降低排气对温室效应的影响，在排放含氟废气前，会以高温（摄氏700、800度才进行）将气体由有机转分解为无机，才不会破坏臭氧层。

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私密影片播放器常见问题汇总

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私密影片播放器使用体验

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斯科特在1990年加入了多党民主运动(MMD)，并当选为国家农业委员会主席。在1991年的大选中当选为国会议员（姆皮卡选区），随后被任命为农业、食品和渔业部长。在1992年1月和2月的赞比亚“世纪干旱”期间他紧急安排从海外进口储备玉米，控制旱情，并在1992 - 93年获得“大丰收”。

1996年斯科特退出多党民主运动，与ZNFU总裁Ben Kapita联合组建利马党。2001年他加入赞比亚爱国阵线，2006年大选中重新当选国民议会议员。

2011年9月20日赞比亚举行总统选举，他作为迈克尔·萨塔的竞选伙伴击败多党民主运动的鲁皮亚·班达赢得选举。2011年9月29日宣誓就任赞比亚副总统。

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