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1793年，广场更名为“胜利-全国广场”（place des Victoires-Nationaux），被毁雕像换为一个木制的金字塔。1810年，在拿破仑一世统治时期，路易·德赛将军的裸体雕像替换了金字塔。拿破仑退位后，这座雕像也被推倒，换成亨利四世雕像。
1828年，复辟的波旁王朝国王查理十世下令兴建目前的12米高的骑马铜像，雕塑家是弗朗索瓦·约瑟夫·博西奥（François Joseph Bosio）。路易十四被打扮成罗马皇帝，骑在一匹骏马上。
广场周围地区现在是高档街区，时装设计师Kenzo、Cacharel、Thierry Mugler 都在此开设店铺。
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CMP设备与晶圆生产中的抛光设备有相似之处（见上图），但集成电路硅片中很多材料的加入以及金属层的增加使得CMP设备不能如同抛光设备那样简单，而需要加入特别的过程获得平坦化的效果。这主要体现在对抛光厚度、抛光速率的检测上，被称作终点检测，通常有电机电流终点检测、光学终点检测。
在抛光工艺过程中，磨料和被抛光对象都会造成硅片的沾污，清洗的主要目的就是为了清除这些沾污物质，使硅片的质量不致受到影响。所采用到的清洗设备有毛刷洗擦设备、酸性喷淋清洗设备、超声波清洗设备、旋转清洗干燥设备等。清洗步骤主要有氧化硅清洗、浅沟槽隔离清洗、多晶硅清洗、钨清洗、铜清洗等。
* 生产中间步骤中氧化层和金属间电介层的平面化
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恩斯特·冯·吕歇尔（Ernst von Rüchel，1月14日）是一位普鲁士将军，他率领的一个军团在1806年10月14日的耶拿战役中被拿破仑的法国军队摧毁。在1793年和1794年的法国大革命战争期间，他指挥普鲁士王国的军队参加了几次战斗。之后，他担任了各种外交官和军事督察职务。1806年拿破仑战争期间，他担任重要的前线指挥角色，但因在耶拿的行动而受到批评。战斗中负伤后，他设法逃脱了法军的追捕，但再也没有指挥部队参加战斗。
吕歇尔于1754年7月21日出生于普鲁士波美拉尼亚的齐策内夫。
在第一次反法同盟期间，吕歇尔以上校军衔指挥部队与法兰西第一共和国作战。在1793年4月10日至7月23日的美因茨围城战期间，他指挥了一个普鲁士步兵旅。在晋升为少将后，他在1793年12月的第二次维桑堡战役中率领普鲁士特遣队。在他的指挥下的单位是数个步兵团，三个中队的猎兵和两门火炮。
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